今日，光刻机(胶)板块表现活跃，截至发稿，波长光电、中巨芯-U20CM涨停，永新光学、凯美特气涨停，中芯国际盘中一度涨超10%，苏大维格一度涨超9%。

消息面上，据英国《金融时报》周三报道，两位知情人士透露，中芯国际正在测试由上海初创公司宇量昇制造的深紫外光刻机。正在测试的这款机器采用的是浸没式技术，类似于阿斯麦采用的技术。一位知情人士表示，尽管中芯国际的试验初步结果令人鼓舞，但目前尚不清楚该机器是否以及何时能用于大规模芯片生产。

报道称，深紫外光刻机是先进芯片生产的关键组件，中国公司将从该技术的国内生产中获益匪浅。这一发展将帮助中国克服美国对芯片制造技术出口的管控，并进一步减少对西方技术在先进人工智能处理器方面的依赖。

受影响板块分析：

半导体设备板块：光刻机作为半导体制造最核心的设备，其技术突破和产业链本土化进程将带动国产半导体设备整体发展。相关企业在研发投入和产能建设方面将获得更多支持，有望打破国外技术垄断。

光学元件板块：光刻机中的光学系统是其核心组成部分，涉及镜头、光源等精密光学元件。国内光学企业在高端光学器件研发和制造能力将持续提升，带动整个光学产业链向高端化发展。

电子化学品板块：光刻胶等电子化学品是光刻工艺中的关键材料，随着国产替代进程加快，相关企业将受益于产业链本土化，市场份额有望持续提升。